等離子體腐蝕、等離子去膠在半導體制程中較早采用等離子去膠，用常壓輝光冷等離子體產生的活性物質來清潔有機粘污和光刻膠，是替代濕化學清洗的一種綠色方法。
1、化學為主清洗，在清洗進程中，外表反響首要是化學反響等離子體清洗，習慣上稱為等離子清洗，許多氣體的等離子態都能產生高活性顆粒。由化學式可知，典型的PE工藝為氧或氫等離子體工藝，通過與氧等離子的化學反響，可將非揮發性有機物轉化為易揮發的CO2和水汽。除掉污垢，使外表潔凈；
使用離子氫氣可以通過化學反響除掉金屬外表的氧化層，清潔金屬外表。由反響性氣體離子化產生的高活性反響顆粒，在必定條件下，它與被清洗物的外表產生化學反響，其生成物為易揮發物質，可被抽除；而關于所鏟除氣體的化學成分，挑選恰當的反響氣體組分至關重要。PE具有外表改性、清洗速度快、挑選性好、對有機污染等長處。缺點在于可能會產生氧化物。
2、物理反響首要是清洗，其外表反響首要為物理反響的等離子體清洗，又稱濺射腐蝕和離子銑IM。外表物理濺射是等離子體中的正離子在電場作用下獲得能量以轟擊外表，與外表分子片斷和原子產生磕碰，使污染物質從外表除掉，而且能使外表在分子級范圍內改動微觀形狀粗糙化，從而改進外表的粘結性。
氬自身是一種惰性氣體，等離子態的氬氣不與外表反響，其進程為氬等離子通過物理濺射來凈化外表。等離子體物理清洗不會產生氧化副反響，堅持被清洗物化學純潔，腐蝕各向異性，缺點是對外表有很大的損害和熱效應，挑選性差，速度低。
如今，彈力資料中含有許多油漆浸漬損害的物質，這是用傳統濕法無法獨自去除的。軟化劑和脫模劑能從彈性體主體向外表搬遷，從而引起昂貴的質量問題。等離子體清洗，去除漆膜及障礙物，發現并鏟除有機硅污染物，改進各種塑料粘合性能，可以改進高分子資料的外表潮濕性。
