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真空等離子清洗機為什么需要用到真空泵?

發布日期:2020-06-04 00:00 來源:http://www.historianr.com 點擊:

真空等離子清洗機為什么需要用到真空泵
    真空(低壓)等離子清洗機(PLASMA)是一種依托處于“等離子態”的物質的“活化效果”即等離子活化,來去除物體外表污漬的一種清洗設備。它歸于電子工業清洗中的干法清洗,進程中需求真空泵制造必定的真空條件滿足清洗所需,等離子清洗所需求的等離子體主要經過特定的氣體分子在真空、放電等特殊場合下發作,像低壓氣體輝光等離子體。簡略地如開頭說,等離子清洗需求在真空狀態下進行(一般需保持在100Pa左右),所以需求真空泵進行抽真空作業。
其主要進程包含:首先將需求清洗的工件送入真空室固定,發動真空泵等設備開端抽真空排氣到10Pa左右的真空度;接著向真空室引進等離子清洗用的氣體(根據清洗材質的不同,選用的氣體也不同,如氧氣、氫氣、氬氣、氮氣等),并將壓力保持在100Pa左右;在真空室內的電極與接地設備之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并經過輝光放電使其發作離子化,發作等離子體;在真空室內發作的等離子體完全覆蓋被清洗工件后,開端清洗作業,清洗進程會繼續幾十秒到幾分鐘。整個進程就是依托等離子體在電磁場內空間運動,并炮擊被處理物體外表,大多數的物理清洗進程需求有高能量和低壓力。在炮擊待清洗物外表以前,使原子和離子到達較大的速度。 因為要加速等離子體,所以需求高能量,這樣等離子體中的原子和離子的速度才能更高。需求低壓力是為了在原子之間磕碰前增加它們之間的平均距離,這個距離指平均自由程,這個路徑越長,則炮擊待清洗物外表的離子的概率越高。然后到達外表處理、清洗和刻蝕的效果(清洗進程某種程度就是細微的蝕刻工藝);清洗完畢后,排出汽化的塵垢及清洗氣體,一起向真空室內送入空氣康復至正常大氣壓。
   清洗進程中,在真空泵操控真空室的真空環境時,氣體的流量決定了發光色度:如果色度較重,闡明真空度低,氣體流量較大;而偏白時,則是真空度過高,氣體流量較??;詳細需求根據所需的處理效果,來確認真空泵要完成的真空度。
   真空等離子清洗機作為一種精細干法清洗設備,適用于混合集成電路、單片集成電路管殼和陶瓷基板的清洗;應用于半導體、厚膜電路、元器件封裝前、硅片 刻蝕后、真空電子、連接器和繼電器等職業的精細清 洗,可去除金屬外表的油脂、油污等有機物及氧化層。 還可應用于塑料、橡膠、金屬和陶瓷等外表的活化以及生命科學實驗等。

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