等離子活化
華東聯系人 朱先生:13584967268
華南聯系人 郭先生:13826959997

新聞中心News

聯系我們Contact us

蘇州愛特維電子科技有限公司
聯系人:朱先生
手 機:13584967268
郵 箱:sam.zhu@atv-corp.com
網 址:www.historianr.com
地 址:昆山市周市鎮長興東路268號

東莞愛特維等離子科技有限公司
聯系人:郭文江
電話:13826959997
地址:東莞市長安鎮烏沙路551號怡豐商業大廈606


新聞中心

您的當前位置: 首 頁?>>?新聞資訊 >> 行業新聞

等離子清洗機在半導體制造中的運用

發布日期:2020-04-21 00:00 來源:http://www.historianr.com 點擊:

      等離子體輔助清洗技能是一種先進制造工業中的精密清洗技能,在許多工業領域都能夠運用到這種清洗技能,下面為大家介紹一下,等離子清洗機清洗技能在半導體制造中的運用。 
  
    化學氣相堆積(CVD)和刻蝕被廣泛運用于半導體加工過程中,運用CVD能夠堆積多晶硅薄膜、氮化硅薄膜、二氧化硅薄膜和金屬薄膜(如鎢)。此外,微三級管及電路中起銜接效果的細導線也是在絕緣層上通過CVD工藝制成的。 


     在CVD過程中,部分殘留物會堆積到反應腔室內壁上。這里的危險是,這些殘留物會從內壁上脫離,對后續的循環過程形成污染。因而,在新的堆積過程開端之前需求對CVD腔室用等離子清洗機清洗來維護產品的合格產出。傳統的清洗劑是PFCs和SF6這類含F的氣體,能夠被當成等離子體發生氣體用于將CVD腔室內壁的Sio2或許Si3N4去除潔凈。再循環過程中,FFC在等離子體效果下分化出來的F原子能夠刻蝕掉殘留在電極、腔室內壁和腔內五金器材上的殘留物。 


     理解FFC需求很高的能量。因而,在等離子清洗機進行清洗的過程中腔室內適當一部分的FFC不會離解成活性F原子。這部分未反應的含F氣體除非運用減排技能,否則zui終仍是會流入大氣中。這些氣體在大氣層中的壽數很長,會在很大程度上加劇全球變暖,其熱能比二氧化碳高出4個量級,因而世界環保安排從1994年開端開展削減這種氣體排放的技能。NF3對溫室效應的影響較小,能夠代替上述的含F氣體。 


     另一個運用于半導體職業的制造過程是運用等離子清洗機清洗去除硅膠片上元件表面的光敏有機資料制造的光刻膠。在堆積工藝開端前,需求將殘留的光刻膠去除潔凈。傳統的去膠辦法采熱的硫酸和過氧化氫溶液,或其他的有毒的有機溶劑。但是,運用等離子清洗機清洗能夠用三氧化硫等氣體去膠,這種辦法削減了對化學溶劑和有機溶劑的依賴。關于一般的制造廠來說,選用等離子體清洗技能去膠可使化學溶液的運用量削減1000倍,不只環保,還能為企業節約大量資金。 等離子清洗機

相關標簽:等離子清洗

亚洲国产成人久久综合三区-色偷拍 自怕 亚洲 10p-亚洲av无码专区电影在线观看-女班长裸体扒开两腿让我桶