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等離子清洗機的清洗原理 及特點

發布日期:2020-04-16 00:00 來源:http://www.historianr.com 點擊:

                                               等離子清洗機的清洗原理 及特點
等離子清洗機的清洗原理是在真空腔體里,經過射頻電源在必定的壓力情況下起輝發生高能量的無序的等離子體,經過等離子體炮擊被清洗產品外表,以抵達清洗意圖。


在這種情況下,等離子處理能夠發生以下效果:


1、灰化外表有機層


污染物在真空和瞬時高溫下的部分蒸發,污染物被高能離子損壞并被真空帶走。


紫外輻射損壞污染物,因為等離子體處理每秒鐘只能穿透幾納米,所以污染層不應該太厚。指紋也適用。


2、氧化物去除


這種處理包括運用氫或氫和氬的混合物。有時也選用兩步流程。首先是用氧氣氧化外表5分鐘,第二步是用氫和氬的混合物除去氧化層。它也能夠一重用幾種氣體處理。


3、焊接


一般,印刷電路板應在焊接前用化學藥劑處理。焊接后,這些化學物質必須用等離子體法去除,否則會引起e79fa5e98193e59b9ee7ad9431333431373935腐蝕和其他問題。


擴展材料 


等離子清洗/刻蝕機發生等離子體的設備是在密封容器中設置兩個電極構成電場,用真空泵結束必定的真空度,跟著氣體愈來愈冷漠,分子距離及分子或離子的悠閑運動距離也愈來愈長。


受電場效果,它們發生磕碰而構成等離子體,這些離子的活性很高,其能量足以損壞幾乎一切的化學鍵,在任何顯露的外表引起化學反應,不同氣體的等離子體具有不同的化學功用,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應生成氣體,然后抵達清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿意刻蝕的需求。


運用等離子處理時會宣告輝光,故稱之為輝光放電處理。


等離子體清洗技能的較大特點是不分處理政策的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、乃至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可結束全體和部分以及凌亂結構的清洗。

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