等離子清洗機常用的工藝氣體有氧氣 (Oxygen, O2)、氬氣 (Argon, Ar)、氮氣 (Nitrogen, N2)、壓縮空氣 (Compressed Air, CDA)、二氧化碳 (Carbon, CO2)、氫氣（hydrogen, H2）、四氟化碳（Carbon tetrafluoride, CF4）等。
1 氧氣
氧氣是等離子清洗常用的活性氣體，歸于物理+化學的處理方式，電離后發作的離子體能夠對外表進行物理轟擊，構成粗糙外表。一起高活性的氧離子能夠與被斷鍵后的分子鏈發作化學反響構成活性基團的親水外表，抵達外表活化的目的；被斷鍵后的有機污染物的元素會與高活性的氧離子發作化學反響，構成CO、CO2、H2O等分子結構脫離外表，抵達外表清洗的目的。
氧氣主要運用于高分子資料外表活化及有機污染物去除，但不適用于易氧化的金屬外表。
真空等離子狀態下的氧等離子呈現淡藍色，部分放電條件下相似白色。放電環境光線比較亮，肉眼查詢時可能會呈現看不到真空腔體內有放電的狀況。
2 氫氣
氫氣與氧氣相似，歸于高活性氣體，能夠對外表進行活化及清洗。氫氣與氧氣的差異主要是反響后構成的活性基團不同，一起氫氣具有還原性，可用于金屬外表的微觀氧化層去除且不易對外表敏感有機層形成損壞。所以在微電子、半導體及線路板制作行業運用較廣。
因氫氣為危險性氣體，未被電離時與氧氣匯合會發作自爆，所以在等離子清洗機中一般是阻止兩種氣體混合運用的。
真空等離子狀態下氫等離子呈赤色，與氬等離子相似，要相同的放電環境下比氬等離子顏色略深。
3 氮氣
氮氣電離構成的等離子體能夠與部分分子結構發作鍵合反響，所以也是一種活性氣體，但相對于氧氣和氫氣而言，其粒子比較重，一般狀況下在等離子清洗機運用中會把此氣體界定在活性氣體氧氣、氫氣與惰性氣體氬氣之間的一種氣體。在清洗活化的一起能夠抵達必定轟擊、刻蝕的效果，一起能夠避免部分金屬外表呈現氧化。
氮氣與其他氣體組合構成的等離子體一般會被運用于一些特別資料的處理。
真空等離子狀態下氮等離子
也是呈赤色，在相同的放電環境下，氮等離子會比氬等離子和氫等離子更亮一些。
